MTK臭氧水生成器的特征

■臭氧水濃度高（很大30ppm）

■臭氧水中無金屬雜質(zhì)

半導體，液晶，太陽能電池等潔凈規(guī)格（臭氧水生成部由氟素樹脂材料組成）

■臭氧濃度上升快，達到臭氧很大濃度僅需大約1分鐘

■生成器體積小。長400mm。寬550mm。高820mm（標準規(guī)格）

■與其他公司產(chǎn)品相比價格低廉

使用臭氧水清洗的優(yōu)點

①減少化學藥品的使用

a) 半導體用化學藥品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相對較貴，并且需在60-100 ℃的高溫條件下發(fā)生作用，難以使用。而近年，臭氧水作為可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式， 受到廣泛關(guān)注。因為僅僅是將純凈水通過臭氧水生成器，便可以簡單地產(chǎn)生臭氧，因此可大大降低運營成本。

b) 使用臭氧水進行清洗處理后，臭氧成分便迅速蒸發(fā)，因此廢水處理也十分容易。

②出色的清洗能力(顆粒， 金屬污染物，有機物質(zhì))

因為臭氧擁有僅次于氟素的氧化還原能力，其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很難氧化的碳化硅或氮化鎵基板也十分有效。(兩者作為半導體材料受到廣泛關(guān)注）

臭氧水發(fā)生器參數(shù)

臭氧生成方式：無聲放電法

將臭氧氣體溶解于純凈水的方法：噴射方式

臭氧水中臭氧的濃度監(jiān)測：紫外吸收法

臭氧水濃度：30ppm

臭氧水流量：50L /min

設(shè)備尺寸：寬度400mm 深度550mm 高度850毫米

重量：20　～　100Kg

消耗功率：～３KW

氧氣壓力：為0.1MPa（供給為0.3MPa）

氧氣純度：99.5％（指定）

氧氣消耗量：～16L/min.

供應(yīng)純凈水的壓力：0.20Mpa以上（理想值0.25MPa）

供應(yīng)純凈水的溫度：低于25℃

臭氧氣體生成部的冷卻水溫度：理想值為20℃以下。如無法實現(xiàn)，需根據(jù)情況增加冷卻器（可選）。

CO2氣體消耗量： 

臭氧濃度過高時需通過純凈水行注入：

使用臭氧水生成裝置的用途

?半導體（清洗）

?FPD，液晶（清洗）

?MEMS，傳感器（清潔）

?硬盤（清洗）

?太陽能電池（清潔）

?醫(yī)療（洗手，純凈水管道清洗）

?食品（洗手，消毒，除臭）