臭氧發生器在ALD應用中流程介紹

臭氧源+ Sci-L控制器

使用內置的O3監測器對O3濃度進行閉環反饋控制。

O2氣體流量高達1000 sccm, O3濃度高達22 wt%。

當發電機打開時，O3總是流動=>需要一條分流線和一條處理線(內置源)

由于發電機以30 psig的速度運行(由BPR維護)，并且ALD單元處于低壓狀態，因此必須對分流管線進行泵送。

?工藝線連接到ALD裝置的反應氣艙=>可以使用已經到位的標準ALD閥門(需要對FlexAL控制軟件進行小修改)

我們使用一個小腳本直接從ALD控制PC的桌面控制臭氧源(氣體流量，O3濃度，開/關)。

用途:導電錫膜生長

沉積條件

襯底溫度= 300C;

·TDMAT周期:1sec @ 15mT, Ar draw @ 50sccm;Ar吹掃4s @ 15mT;60C電源

H2/N2等離子給藥:流量、壓力、ICP功率、時間均可更改

退火條件(電阻率穩定性試驗)

在400C的成型氣體中60分鐘

應用范圍:III-V型半導體上的MIS器件

FlexAL ALD的原位As脫帽

●在InGaAs上生長無定形as帽，在MBE末端生長=>表面不受環境影響(理想表面=>很小Dit?)

以AsH3的形式暴露于兩功率H*等離子體(2W)中除去As帽。循環(2wh *等離子體持續5s)/(SE測量持續4s)直到到達界面。

?在清潔的InGaAs界面上立即生成氧化物(界面永遠不會暴露在空氣中!)

●初步結果令人鼓舞